棒体，只是中心还留下一个小孔。为制作实心棒，必须加大加热包皮管的温度，使包皮管在更高的温度下软化收缩，最后成为一个实心玻璃棒。为使温度升高，可以加大氢氧火焰，也可以降低火焰左右移动的速度，并保证石英包皮管始终处于旋转状态，使石英包皮管外壁温度达到1800℃。原石英包皮管这时与沉积的石英玻璃熔缩成一体，成为预制棒的外包层。外包层不起导光作用，因为依前几章的分析可知：激光束是在沉积的芯层玻璃中传播。
由于光脉冲需经芯层传输，芯层剖面折射率的分布型式将直接影响其传输特性，那么如
果控制芯层的折射率呢？芯层折射率的保证主要依靠携带掺杂试剂的氧气流量来精确控制。在沉积熔炼过程中，由质量流量控制器（MFC）调节原料组成的载气流量实现。如果是阶跃型光纤预制棒，那么载气（O2）的流量应为恒定：
Q=cont （5-2-8）
如果是梯度分布型光纤预制棒，载气的流量Q可由下式决定：
g 2 xt x （5-2-9） Qx Q0 1 xt
Q式中：0-掺杂试剂载气的最大流量。
Qx-沉积第x层时所需的掺杂试剂载气总流量。
xt-沉积芯层过程中的总层数。
-沉积的第x层。
g-光纤剖面折射率分布指数。
为使光纤预制棒的折射率分布达到所需的要求，可以通过向二氧化硅基体中加入少量掺
杂剂来改变其折射率的方法实现。为满足光纤的导光条件要求，通常可采用三种掺杂方式：
1.在熔炼纤芯玻璃时，按某种规律掺入少量的较石英折射率n0稍高的材料，例如（GeO2）氧化锗或氧化磷P2O3、使芯层的折射率为n1，即n1>n0；
在制备包层玻璃时，同样，掺入少量的较石英折射率n0稍低的材料，例如氟F或氧化
硼B2O3等，使包层的折射率为n2并小于纯二氧化硅的折射率n0，即n2<n0；
这样掺杂熔炼出的光纤预制棒完全满足对光纤导光条件的要求：n1>n2。
2.熔炼纤芯玻璃时，掺杂方法与“1”中相同，n1>n0；而在制备包层时，只沉积二氧化
硅材料，不掺杂任何掺杂剂，得到纯SiO2玻璃层，其折射率为n2＝n0，满足n1>n2＝n0的光纤导光条件的要求。
3.熔炼纤芯玻璃时，只沉积二氧化硅材料，不掺杂任何掺杂剂，得到纯SiO2玻璃层，
其折射率为n1＝n0，而制备包层玻璃时，与1.中沉积包层的方法相同，使包层的折射率为n2并小于纯二氧化硅的折射率n0，即n2<n0，从而满足n1＝n0>n2的光纤导光条件的要求。
在光纤预制棒沉积过程中，如果掺杂试剂的含量过多，沉积层之间的玻璃热膨胀系数会
出现不一致，在最后的软化吸收熔缩成棒工艺中，棒内玻璃将会产生裂纹，影响预制棒的最终质量与合格率，所以必须严格控制掺杂剂的含量。
此外，使用MCVD法熔炼光纤预制棒时，由于最后一道工序－---熔缩成棒时的温度过高，1800℃，使石英包皮管芯层中心孔内表面附近的掺杂剂分解升华，扩散（GeO2沸点 ？℃），最终导致预制棒中心的折射率下降，折射率分布曲线出现中心凹陷，如图5－2-5所示。
GeO＋（5－10） x
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