半导体物理,考试,复习,试卷
射机构几率的影响及原因。
答:主要的散射机构为晶格振动散射和电离杂质散射 其散射几率和温度的关系为:晶格振动散射:
ps T
3/2
,电离杂质散射:
pi NiT
3/2
2 有4块Si半导体样品,除掺杂浓度不同外,其余条件均相同。根据下列所给数据判断哪块样品电阻率最大?哪块样品的电阻率最小?并说明理由。 (1)NA=1.2×1013/cm3, ND=8×1014/cm3; (2)NA=8×1014/cm3, ND=1.2×1015/cm3; (3)NA=4×1014/cm3; (4)ND=4×1014/cm3.
3 当PN结两侧掺杂浓度ND及NA相同时,比较Si、Ge、GaAs材料PN结内建电势的大小,为什么?
4 画出外加正向和负向偏压时pn结能带图(需标识出费米能级的位置)。
5 在一维情况下,描写非平衡态半导体中载流子(空穴)运动规律的连续方程是什么?说明各项的
2
E p p p物理意义。 p
Dp- E p gp
pp2
t x x x
p t
――在x处,t时刻单位时间、单位体积中空穴的增加数;D
p
p
p
2
――由于扩散,单位时间、单
x
2
位体积中空穴的积累数;
p
E
p x
pp
E x
――由于漂移,单位时间、单位体积中空穴的积累数;
p
p
――由于复合,单位时间、单位体积中空穴的消失数;gp――由于其他原因,单位时间、单
位体积中空穴的产生数。
6 室温下某n型Si单晶掺入的施主浓度ND大于另一块n型Ge掺入的施主浓度ND1,试问哪一块材料的平衡少子浓度较大?为什么?
7 以n型Si材料为例,画出其电阻率随温度变化的示意图,并作出说明和解释。 答:设半导体为n型,有
1nq n
AB:本征激发可忽略。温度升高,载流子浓度增加,杂质散射导致迁移率也升高, 故电阻率ρ随温度T升高下降;
BC:杂质全电离,以晶格振动散射为主。温度升高,载流子浓度基本不变。晶格
振动散射导致迁移率下降,故电阻率ρ随温度T升高上升;
CD:本征激发为主。晶格振动散射导致迁移率下降,但载流子浓度升高很快,故
电阻率ρ随温度T升高而下降; 8.金属和半导体导电类型上有何不同?
金属自由电子导电,半导体非平衡载流子导电
9.平衡p-n结的空间电荷区示意图如下,画出空间电荷区中载流子漂移运动和扩散运动的方向(在
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