显示器件设计制作实验报告(4)

目前关于SED电子发射机理有两种理论模型解释：

1）电子多重散射模型：电子最传下风湿，会同时薄膜发生碰撞，结果导致一部分电子进入薄膜，成为博膜表面电流，另一部分电子被散射进入SED内部空间。散射出去电子有两种运动轨迹：重新进入薄膜，再次循环发生散射；或者在垂直电场起作用，在电场作用下轰击阳极。

2）电子惯性离心模型：电子在电场中运动时，由于运动轨迹不是垂直的，会受到惯性离心力的作用李的作用更容易脱离西风，到达阳极。

4、溅射镀膜：

溅射镀膜是借助高能粒子攻击所产生的动量交换，把镀膜材料的原子从固体表面撞出并发射出来出来，放在靶前面的的基材料截溅射出来的原子流，后者凝聚成镀膜。主要分为：

1）直流溅射；2）射频溅射；3）磁控溅射；4）反应溅射

5、光刻加工工艺

光刻加工艺是一种图形复印和腐蚀相结合的表面微细加工工艺。先用光照的方法，将光刻掩模上的图形景区地印制在涂有感光胶的薄膜表面，然后李勇敢硬件的选择保护作用薄膜进行选择性腐蚀，从而刻出图形，主要流程：

1）衬底准备；

2）涂胶；

3）前烘；

4）曝光；

5）显影；

6）坚膜；

7）刻蚀；

8）去胶

光刻主要分为正性光刻和负性光刻，正性把掩膜板的图形复制到硅片上，负性与正性光刻相反，本实验采用正性光刻。

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