显示器件设计制作实验报告(15)

曝光时间大致60秒。拉上遮光板挂钩电路接通，开始抽真空使遮光板贴紧曝光面玻璃面，抽真空6秒后强紫外灯点亮开始曝光。

显影：先配置显影液，显影液为质量分数为4.5‰的氢氧化钠溶液。

坚膜（后烘）：将显影后的玻璃基片放入烘箱中，在80℃下烘5分钟。

磁控溅射镀膜：靶材料用钯（Pd），在氩气（Ar）气氛下（流量20sccm）预溅射靶材料20秒；在氩气（流量20sccm）和氧气（O）2（流量10sccm）气氛下氧化靶材料（第一次120秒，之后30秒）；在氩气（流量20sccm）和氧气（流量30sccm）气氛下磁控溅射镀膜180秒。由于时间有限，只有部分玻璃先加热到100℃在进行镀膜，其余的玻璃基片未加热直接镀膜。

去胶：采用溶液使器件电极表面的胶膜溶胀或溶解而脱落，去胶液为酒精。

至此导电膜制作工序完成。可以看出基片加热后镀上的导电膜呈蓝色，基片未加热镀上的导电膜呈银白色。

6、导电薄膜裂缝加电形成及表面传导电子发射性能测试：

在电子发射膜两端施加一定波形的电压，使电子发射薄膜上产生裂纹，形成电子发射区，该步骤称为“加电形成”。当器件电流If突然增大后，停止脉冲电压，测量并联电阻Rp，如Rp增大一个数量级以上表明已经形成裂缝。形成工艺以后，向真空室导入有机气体，并在导电膜两端施加脉冲电压，气氛中的碳在裂缝附近堆积，使发射

百度搜索“77cn”或“免费范文网”即可找到本站免费阅读全部范文。收藏本站方便下次阅读，免费范文网，提供经典小说教育文库显示器件设计制作实验报告(15)在线全文阅读。