2.1 硫酸-氢氟酸法
当试样中的SiO2含量在98%以上时,可采用此法。具体方法如下:将测定灼烧减量后的试料加数滴水湿润,然后加硫酸(1+1)0.5ml,氢氟酸(密度1.14g/cm3)10ml,盖上坩埚盖,并稍留有空隙,在不沸腾的情况下加热约15min,打开坩埚盖并用少量水洗二遍(洗液并入坩埚内),在普通电热器上小心蒸发至近干,取下坩埚,稍冷后用水冲洗坩埚壁,再加氢氟酸(密度1.14g/cm3)3ml并蒸发至干,驱尽三氧化硫后放入高温炉内,逐渐升高至950~1000℃,灼烧1h后,取出置于干燥器中冷至室温后称量,如此反复操作直至恒重。二氧化硅含量的计算公式如下:
SiO2(%)=(m1-m2)/m ×100
式中:
m1 —— 灼烧后坩埚与试料的质量,g
m2 —— 氢氟酸处理后坩埚的质量,g
m —— 试料的质量,g
2.2硝酸-氢氟酸法
当试样中的SiO2含量大于95%而小于或等于98%时,可采用此方法。具体如下:
(1) 将试料置于铂坩埚中,加盖并稍留缝隙,放入 1000~1100℃高温炉中,灼烧1h。取出,稍冷,放入干燥器中冷至室温,称量。重复灼烧,称量,直至恒重。
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